所述二极管结构包括覆盖所述衬底和所述沟槽的传导层，所述传导层电连接到所述衬底以及电连接到所述一传导区域和所述第二传导区域。在一些实施例中，所述传导层与所述衬底接触或者与所述衬底分离小于300nm。在另一方面，提供了一种二极管。该二极管包括：衬底，具有一沟槽；阴极和阳极，耦合到所述衬底；一传导区域，位于所述沟槽中并且与所述衬底分离一距离，所述一距离短于10nm；以及第二传导区域，位于所述沟槽中并且比所述一传导区域更深地延伸。在一些实施例中，所述衬底包括第二沟槽，所述二极管进一步包括：至少一个晶体管，具有在所述一沟槽和所述第二沟槽之间延伸的至少一个沟道区域，所述一传导区域限定所述至少一个晶体管的栅极。在一些实施例中，所述二极管包括：传导层，覆盖所述衬底以及所述一沟槽和所述第二沟槽；以及接触区域，形成在所述衬底中并且将所述沟道区域电连接到所述传导层。在一些实施例中，所述一传导区域和所述第二传导区域是半导体区域，所述沟道区域和所述一传导区域掺杂有相反的导电类型。在一些实施例中，所述二极管包括漏极区域，所述漏极区域在所述沟道区域下方以及在所述一沟槽和所述第二沟槽之间延伸在一些实施例中。
以及然后b)获得电压的指数函数，其中该函数通过两个点或者在多于两个点的情况下则靠近点。然后，饱和电流密度是指数函数针对零电压的值。在步骤a)期间，特性的每个点的电压值被测量，使得它基本上不包括例如在1mv内的、二极管的寄生接入电阻的电压降。每个点的电流密度对应于流过二极管的电流值除以俯视图中沟槽之间的表面积。在步骤b)中，推荐地通过将电流密度的对数与指数函数的对数之间的差的平方和小化来确定指数函数。当二极管被反向偏置时，由区域306通过层308引起的静电影响使得能够限制沟道区域和漏极区域中的电场(即，相对于区域306和层308不在那里的情况下的电场，减小了该电场)。这限制了二极管中的漏电流。此外，这使得能够在漏极区域的给定掺杂水平下增加雪崩电压以及/或者在给定雪崩电压下增加漏极区域的掺杂水平。增加漏极区域的掺杂水平的优点在于，当该掺杂水平高时，二极管的电导率更大，并且当电流在正向方向上流动时，二极管中的电压降因此受到限制。作为示例，漏极区域具有的掺杂水平在从。沟道区域具有的掺杂水平例如在从。此外，沟槽被分离的距离例如在从μm到μm的范围内)。在沟道区域的较低水平下。
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